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图纸介绍

  • 高度类别:多层建筑
  • 幕墙面板材料:其他
  • 结构形式:其他结构
  • 钢筋混凝土结构:其他结构
  • 图纸深度:方案(初设图)
  • 项目位置:上海
  • 设计风格:现代风格
  • 设计流派:现代
  • 图纸格式:PDF
  • 图纸张数:103张
  • 建筑面积:16120㎡
  • 面积:10157㎡
  • 容积率:1.2
  • 建筑密度:29.25%
  • 绿化率:43%
  • 效果图:有
本项目为上海明浦科技发展有限公司新建双并发集成电路测试系统生产厂房及辅助用房。公司坚持"创新投资、价值投资"的理念,着力打造支持企业成长的全程式金融服务链,帮助企业实现资本、管理、资源等全方位的价值提升。项目建设点位于闵行区浦江镇三鲁路3279号,八六三园区内。土面积约10157 平方米;拟在该块内建造生产厂房。总建筑面积约16120.32 平方米,其中上建筑面12165.53 平方米,下建筑面积约3954.79平方米,容积率1.2。

上海集成电路系统产业园区夜景效果图鸟瞰

上海集成电路系统产业园区透视图一

上海集成电路系统产业园区透视图二

上海集成电路系统产业园区总平面

上海集成电路系统产业园区部分平面

上海集成电路系统产业园区立面图

上海集成电路系统产业园区剖面图

缩略图

[上海]集成电路系统产业园区建筑设计方案文本

ID:34736

软件:CAD2008 大小:338.82 上传时间:20200727
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